“EUV 1a나노 적용 중…활용 점차 늘릴 것” -SK하이닉스 컨콜

[이데일리 김응열 이다원 기자] “D램 업체들은 기본적으로 각 사의 기술과 제품개발, 생산 전략에 맞춰 EUV 적용 시점을 결정할 것이고, 각 사의 적용시점과 수준은 다를 수밖에 없다. 우리는 EUV(극자외선) 장비의 높은 투자 비용과 관련 기술의 성숙이 계속되고 있는 상황을 감안해 EUV 적용 효율성을 극대화하는 방향에 초점을 맞춰왔고 현재 업계 최고 수준의 EUV 생산성을 확보했다. 이를 통해 1a나노미터(nm)에선 원가절감 효과가 가장 큰 공정에 EUV를 적용 중이고 기존 DUV 대비 공정 스텝수 줄이고 양산일과 수율 안정화 통해 EUV를 적용하지 않는 이전 테크수준의 원가 절감률을 달성했다. EUV 적용을 어디까지 할 것인지 단언할 수는 없지만 1bnm, 1cnm에서 EUV 적용 개수를 점진적으로 늘릴 계획이다.”

…SK하이닉스(000660) 2022년 4분기 컨퍼런스콜