"美 당국자, 이란 군수공장 공격 배후로 이스라엘 지목"

[이데일리 장영은 기자] 지난 28일(현지시간) 밤 이란 중부 이스파한에 위치한 군수공장에 가해진 드론 공격의 배후로 이스라엘이 지목됐다. 이번 드론 공격은 미국과 이스라엘이 이란의 핵 개발과 군사적 불확실성을 억제하기 위한 방안을 강구하고 있는 가운데 발생했다.

지난 29일 밤 이란 이스파한에 있는 군수공장이 드론 공격을 당했다. (사진= AFP)

월스리트저널(WSJ)은 29일(현지시간) 복수의 소식통을 인용해 전날 이란우주연구센터 인근 이스파한의 군수공장을 겨냥한 드론 공격이 이스라엘의 소행이라고 보도했다. 로이터통신도 미국이 이번 공격의 배후를 이스라엘로 보고 있다고 타전했다.

이스파한에는 이란의 우라늄 농축 프로그램의 중심지인 나탄즈 핵시설 등이 자리 잡고 있다.

이스라엘이 이번 공격을 감행한 것이 사실이라면, 지난달 18개월 만에 재집권한 베냐민 네타냐후 이스라엘 총리가 이끄는 연립정부에서 이란에 단행한 첫 공격이다. 이스라엘군은 관련 논평을 거부했다.

이란 당국은 총 3대의 드론 중 1대는 격추했으나 나머지 2대의 드론이 군수창고 위에서 폭발해 지붕에 경미한 손상을 입혔다고 밝혔다.

최근 이스라엘과 미국은 이란을 견제하기 위한 협력을 강화하고 있다. 양측은 이란과 러시아 간 군사 협력 강화를 포함한 불확실성에 대항하기 위한 논의를 진행해왔다.

윌리엄 번스 미 중앙정보국(CIA) 국장은 이란과 다른 지역 문제를 논의하기 위해 지난주 이스라엘을 방문했으며, 토니 블링컨 미 국무장관은 이란 문제 등을 논의하기 위해 현지시간으로 30일 이스라엘을 찾는다.

다만, 패트릭 라이더 미 국방부 대변인은 이번 이란에 대한 드론 공습에 미군이 관여하지 않았다고 밝혔다.

WSJ은 “조 바이든 대통령은 이란과의 핵 협상이 불발된 이후 아직 대안을 마련하지 못하고 있다”며 “네타냐후 총리는 미국이 이란에 대해 보다 강경한 입장을 취하도록 촉구해 왔다”고 전했다.